12月12日、ASMLの最高経営責任者（CEO）クリストフ・フーケ氏は独占インタビューで、同社がすべてのEUV装置と最先端の深紫外（DUV）リソグラフィー装置の中国への輸出を禁止されたと語った。同氏は「中国の独自の研究開発が競争力を持つのを防ぐため、中国に技術を適切に輸出すべきだ」との考えを繰り返した。同氏はさらに、中国への技術輸出の制限に関して西側諸国は微妙なバランスを見つける必要があると主張した。
同氏は「中国は技術面で『行き詰まった』状況を決して容認しない」と説明した。 「人口14億人の大国であれば、技術の進歩を追求しなければなりません。これは議論の余地のない事実です。」
フーケは、西側諸国が中国への「最新かつ最良の製品」の提供を拒否することで中国の西側技術への依存を維持できると同時に、中国の独自の技術進歩を遅らせることができるという考えを思いついた。
同氏によると、現在 ASML が中国に輸出している装置は、最新の高開口数リソグラフィー技術よりも 8 世代遅れているという。この技術レベルは、2013 年と 2014 年に欧米の顧客に販売された同社製品と同等です。技術的なギャップは 10 年以上あります。
「しかし、問題の核心は、この技術格差をどの程度まで拡大したいのかということだ。中国は5年、10年、あるいは15年遅れを取るのか？」その上でフーケ氏は、西側諸国が規制を過度に強化して中国を絶望的な状況に追い込み、中国が西側技術への依存を完全に脱却せざるを得なくなった場合、代わりに中国に代替製品の独自開発の決意を強いることになると懸念した。長期的には、これは西側諸国がこの巨大な市場を完全に失うことになるだろう。
「中国はすでに多くの分野で独自の研究開発を達成している。時間が経てば、これらの製品を私たちに輸出することもあるだろう。」彼は付け加えた。
インタビューが終わっても、フケ氏はまだその技術的優位性に自信を持っていた。同氏は、「リソグラフィー技術は依然として完全に置き換えることは困難であり、エコシステム全体が非常に相互につながっている。重要なのはリソグラフィー技術そのものだけでなく、当社のリソグラフィー装置が顧客の生産プロセス全体にどのように統合されるかということも重要である。」と述べた。
