9月30日の海外メディアの報道によると、日本の経済産業省は半導体大手マイクロンテクノロジーの広島工場に最大1900億円（約93億元）の補助金を出すことを検討している。

マイクロンは広島工場に最新鋭の製造装置「極端紫外線（EUV）露光装置」を導入し、2026年から新世代のDRAM（ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリー）を量産する計画だ。

日本は国内半導体産業基盤の強化に向け、ＴＳＭＣ熊本工場に最大４７６０億円の補助金を支給することも決定した。