Intelは来週のCESショーでPanther Lakeプロセッサを正式に発表すると予想されており、これは18Aプロセスを使用して量産される初の消費者向けプロセッサである。 18A プロセスは、近年のインテルの最も重要なアップグレードです。リボンFETトランジスタとPowerVia背面電源技術を使用これにより、チップの消費電力をさらに削減し、周波数を高めることができます。
18Aプロセスは、アリゾナ州にあるIntelのFab 52工場で量産が開始された。生産段階に達すれば、生産能力は月産4万枚に達し、歩留まり性能も期待通りだという。
インテルは 10 月に工場ツアーを企画し、Fab 52 工場ツアーをオープンし、先進的な EUV リソグラフィー装置も展示しました。しかし、18Aプロセスにはまだ公開されていない秘密がたくさんあります。次世代の高NA EUV露光装置が切り札として使われる可能性が高い。
High NAタイプは現行EUV露光装置の次世代製品です。主な理由は、NA 指数が 0.33 から 0.55 に増加し、リソグラフィーの解像度をさらに向上させることができるためですが、コストの増加も膨大です。1台の価格は4億ドル、つまり約28億元だ。これは、現在の EUV リソグラフィー装置の価格である 1 億 5,000 ～ 2 億ドルの 2 倍以上です。
IntelはEUVリソグラフィー装置メーカーで出遅れているため、高NA EUVをプロセス改善の機会と見ている。数年前、同社は高NA EUVの最初の顧客になると正式に発表した。過去 2 年間にインテルが発表した情報から判断すると、インテルは少なくとも 3 台の高 NA EUV リソグラフィー マシンを購入しました。
しかし、インテルは近年、ASMLの高NA EUV生産能力を6～7台程度に引き上げているとも言われている。、とても恥ずかしいことだと言えます。結局のところ、TSMCとサムスンは、すぐに高NA EUVリソグラフィー装置の購入を急ぐつもりはない。
What is the purpose of Intel’s large purchase of High NA EUV?以前、このフォトリソグラフィー技術を次世代の14Aプロセスに応用すると述べたが、14Aの工場はまだ建設されておらず、せいぜい実験開発段階にある。
Intel 自体が開示した情報によると、Intel は高 NA EUV を使用して四半期ごとに 30,000 枚以上のウェーハを生産しており、これは月に 10,000 枚のウェーハを生産していることになります。 You must know that the production capacity of 10,000 is not small for actual mass production factories. Now Intel is producing such large quantities in technology research and development.实在是太烧钱太奢侈了。
これは合理的ではありません。 Then the High NA EUV lithography machine may have another use. This kind of lithography machine has been secretly used in the current 18A process, but Intel does not plan to publicize it or announce it.
インテルのアイデアは、高 NA EUV を 18A プロセスの秘密の利点として使用して、競合他社の不意を突いて、高 NA EUV テクノロジーにおけるインテルの優位性を拡大することであると推測されます。
