露光機

14件の記事

📅 10-12

異例の軒並み値上げ:ASMLリソグラフィー装置部品は軒並み10%値上げ、韓国のストレージ大手は全て受け入れ

概要:世界最大の半導体装置メーカーであるASML(ASML)は、韓国に販売するすべての装置交換部品の価格を10%値上げする。今回の値上げは、極紫外(EUV)および深紫外(DUV)リソグラフィー装置のすべてのコンポーネントが対象となり、202

📅 10-05

報道によると、中国は液浸DUVリソグラフィー装置を343台備蓄しており、7nmチップの生産を促進し続ける能力がある可能性がある

要約: 最新の調査報告書によると、先進的なEUVリソグラフィー装置の輸出に対する厳格な制限にもかかわらず、中国本土のウェーハ製造企業は近年液浸DUVリソグラフィー装置を購入し続けており、先進的なリソグラフィー能力のかなりの予備を確立している

📅 10-05

ロシア、870億元を投じて14nmウェーハ工場建設:2036年完成、300mmウェーハをターゲット

要約:「ユナイテッド・マイクロエレクトロニクス会社」(ОМК)設立の枠組みの下で、ロシアは3つの新しいチップ工場の建設を計画しており、そのうちの1つは300mmウェーハと14nmプロセスのチップ生産のための「将来を見据えた量産」工場である。

📅 09-21

長信ダブルハピネス: G5 プラットフォームの量産がサムスンに近づき、LPDDR6 は世界的な発売に先駆けて

要約: 合肥で開催された2026年世界製造会議で、Changxin Technologyは第5世代DRAM技術プラットフォーム(G5プラットフォーム)の量産を正式に発表し、同プラットフォームに基づく大容量LPDDR5X製品を同時に展示し、初

📅 09-08

インテルの高開口数EUVウェーハ処理量が100万枚を超え、その先進プロセスの量産能力が改めて証明される

要約: インテルは、先進的なチップ製造の分野で重要な進歩を遂げました。 Intelのウェーハファウンドリ部門は現地時間9月8日、高開口数の極端紫外リソグラフィー技術を用いたウェーハの累計処理量が100万枚を超えたと発表した。この数字は、一部

📅 09-08

長新ストレージと長江ストレージは、3年間利用可能なASML DUVリソグラフィー装置を準備していることが明らかになった

要約: 半導体製造装置の輸出規制の強化に対応して、中国の2大メモリチップメーカーである長新記憶装置(CXMT)と揚子江記憶技術(YMTC)が、過去数四半期に大規模な戦略備蓄を開始したことが明らかになった。最新の業界調査報告書は、チップ大手2

📅 09-08

ASML の新世代 EUV リソグラフィー装置は TSMC と Samsung からの契約を受けています

概要: ASML は、トップチップメーカーから最新の半導体製造装置を使用するという約束を取り付け、より強力な AI テクノロジーに対する急増する需要に応えるため、より広範な契約を開始しました。サムスン電子とTSMCはインテルに加わり、オラン

📅 09-08

サムスン、次世代半導体製造技術開発でASMLと協力へ

概要:サムスン電子は火曜日、次世代半導体製造技術を共同開発するオランダの半導体装置メーカーASML主導の提携に参加したと発表した。韓国のテクノロジー大手は、この提携は、数十年にわたって広く使用されてきた6インチのフォトマスク形式に代わる12